ヘルマ・マテリアルズ社のCaF2は長年に渡って半導体製造におけるマイクロリソグラフィーの鍵を握る材料として使用され続けております。CaF2はエキシマレーザーの光学系の素子として標準的に用いられており、更にその特徴的な性質は様々な分野のアプリケーションへ応用されております。
優れた光学品質と紫外から赤外線の高波長域に対する高透過性は多くのアプリケーションへの応用を可能にしております。
独特な光学特性を持つLithotec® CaF2
CaF2 (JP)
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稲葉 弘一
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